销售无掩膜曝光机多少钱

参考价	面议

参考价

面议

具体成交价以合同协议为准

公司名称科睿设备有限公司
品牌
型号
所在地上海市
厂商性质其他
更新时间2025/4/18 17:49:19
访问次数442

产品标签:

在线询价收藏产品进入展商展台

联系方式：张垚13916855175 查看联系方式

联系我们时请说明是塑料机械网上看到的信息，谢谢!

索取相关资料

公司介绍主营产品

科睿设备有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd )为多家国外高科技仪器厂家在中国地区的代理。科睿公司一贯秉承『诚信』、『品质』、『服务』、『创新』的企业文化，为广大中国用户提供仪器、设备，周到的技术、服务和*的整体解决方案。在科技日新月异、国力飞速发展的中国，纳米科学研究、薄膜材料(包括半导体)生长和表征、表面材料物性分析、生物药物开发、有机高分子合成等等领域，都需要与欧美发达国家*接轨的仪器设备平台来实现。科睿设备有限公司有幸成长在这个火热的年代，我们愿意化为一座桥梁，见证中国科技水平的提升，与中国科技共同飞速成长。
科睿设备有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd)总部设在中国香港，在中国上海设立了分公司，在国内多个城市设立了办事处或维修站，旨在为客户提供*的产品和服务。2010年，科睿设备有限公司在上海设立备品仓库及维修中心，同时提供在大陆的各项技术服务和后期的维修保障服务，我们拥有专业的应用维修人员，并且都曾到国外厂家进行了专门的培训。上海配备了多种维修部件，能使我们的服务更加快捷和方便。我们承诺24小时电话响应，72小时内赶到现场维修。以利于更好、更快的为中国大陆服务！
因为信任,所以理解.我们理解用户的困难和需求。我们已经为国内众多科研院所和大学根据用户的要求配制和提供了上百套系统，主要用户包括：中科院物理所，中科院半导体所，中科院大连化学物理研究所，国家纳米中心，上海纳米中心，北京大学，清华大学，中国科技大学，南京大学，复旦大学，上海交通大学，华东理工大学，浙江大学，中山大学，西安交通大学，四川大学，中国工程物理研究院，香港大学，香港城市大学，香港中文大学，香港科技大学等。

展开显示更多内容

光刻机，镀膜机，磁控溅射镀膜仪，电子束蒸发镀膜仪，开尔文探针系统(功函数测量)，气溶胶设备，气溶胶粒径谱仪，等离子增强气相沉积系统(PECVD)，原子层沉积系统(ALD)，快速退火炉，气溶胶发生器，稀释器，滤料测试系统

产品简介在线询价

无掩膜曝光机美国IMP（Intelligent Micro Patterning,LLC）公司凭借多年的光刻设备生产经验和多项无掩模曝光技术，已成为无掩模紫外光刻领域的。国内参考用户较多！

销售无掩膜曝光机多少钱产品信息

无掩膜曝光机

美国IMP（Intelligent Micro Patterning,LLC）公司凭借多年的光刻设备生产经验和多项无掩模曝光技术，已成为无掩模紫外光刻领域的。国内参考用户较多！

     产品优点：
     微米和亚微米光刻,最小0.6微米光刻精度
      紫外光直写曝光,无需掩模，大幅节约了掩模加工费用
     灵活性高，可直接通过电脑设计光刻图形，并可根据设计要求随意调整。
      可升级开放性系统设计。
      按照客户要求可从低端到高自由配置
     使用维护简单, 设备耗材价格低。
      应用范围广，目前广泛应用于半导体、生物芯片、微机电系统、传感器、微化学、光学等领域。

    SF-100 型
      可配置汞灯光源和LED光源,多种波长曝光（385nm, 405nm）

      目镜最小像素 1um
      1.25 micron with 4X reduction lens
      0.50 micron with 10X reduction lens
      0.25 micron with 20X reduction lens

无掩膜曝光机

平台参数
全自动电脑控制位移
高精度三维线性驱动样品台

X and Y 轴运动：
      移动范围: 100--300mm
      准确性: +/-200 nm per axis
      重复性: +/- 50 nm per axis

Z 轴运动：
      移动范围: 25 mm
      准确性: +/- 200 nm
      重复性: +/- 75 nm

Theta 转动：
      转动角度: 360 degrees
      准确性: +/-5 arc sec
      重复性: +/-2 arc sec

激光共聚焦对准功能

关键词：传感器