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公司简介  / ABOUT US

? ? ?? 武汉颐光科技有限公司(Wuhan Eoptics Technology Co,Ltd)是国内从事椭偏仪以及光学纳米测量设备研发、制造与销售的企业。公司由多位具有二十多年偏振光学测量经验的专家联合创办,与华中科技大学紧密合作,现有员工80%以上拥有硕士或博士学位,是椭偏光学仪器领域非常有优势的技术团队。

? ? ?? 颐光科技注册于武汉东湖国家自主创新示范区,立足光谷,面向,为用户提供光学散射测量仪等系列产品,并提供仪器、软件、服务等综合解决方案。产品广泛应用于集成电路、半导体、光伏太阳能、平板显示、LED照明、存储、生物、医药、化学、电化学、光学镀膜和保护膜、减反膜、光刻材料等众多领域。

? ? ? 颐光科技充分利用武汉地区的交通便利和人才优势,立志成为中国的光学仪器设备研发创新平台和产业化基地,立志成为企业值得信赖的合作伙伴

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工商信息Business information
法定代表人
马骏
经营状态 存续 天眼评分

评分7332

成立日期
注册资本 1000万人民币 人员规模 100-499人
实缴资本 800万人民币 工商注册号 420100000366723 组织机构代码 07772002-2
统一社会信用代码 91420100077720022F 纳税人识别号 91420100077720022F 营业期限
企业类型 有限责任公司(非自然人投资或控股的法人独资) 行业 研究和试验发展 核准日期
参保人数 109 登记机关 武汉东湖新技术开发区市场监督管理局
曾用名 英文别称
注册地址 武汉东湖新技术开发区金融港四路10号6号楼(自贸区武汉片区)
经营范围 一般项目:仪器仪表制造,仪器仪表销售,光学仪器制造,光学仪器销售,机械电气设备制造,机械电气设备销售,机械设备研发,机械设备销售,电子元器件制造,电子元器件零售,计算机软硬件及外围设备制造,工业控制计算机及系统制造,软件开发,软件销售,技术服务、技术开发、技术咨询、技术交流、技术转让、技术推广,电子元器件与机电组件设备制造,电子元器件与机电组件设备销售,半导体器件专用设备制造,半导体器件专用设备销售,光伏设备及元器件制造,货物进出口,技术进出口,进出口代理。(除许可业务外,可自主依法经营法律法规非禁止或限制的项目)
股东信息Shareholder information
序号 股东(发起人) 持股比例 认缴出资额 认缴出资日期
1
上海精测半导体技术有限公司
100% 1000万元人民币 2030-12-31
专利信息Patent Information
序号 申请日 专利名称 专利类型 申请号 公开(公布)号 公开(公告)日
1 2023-12-28 一种自动变角椭偏仪的角度标定装置及标定方法 发明专利 CN202311845429.6 CN117907243A 2024-04-19
2 2023-12-24 一种光谱仪的波长校准方法 发明专利 CN202311784962.6 CN117889958A 2024-04-16
3 2023-12-16 一种光学散射测量的仿真实验光谱制作方法 发明专利 CN202311743546.1 CN117910221A 2024-04-19
4 2023-12-13 一种基于测量设备的波长校准与测量方法 发明专利 CN202311716165.4 CN117889759A 2024-04-16
5 2023-11-30 一种微光斑透镜应力测量方法 发明专利 CN202311643015.5 CN117760608A 2024-03-26
6 2023-11-24 一种光学散射测量中结构参数初值确定方法 发明专利 CN202311599127.5 CN117760321A 2024-03-26
7 2023-11-22 一种高精度穆勒矩阵椭偏仪的控制方法和装置 发明专利 CN202311578083.8 CN117760979A 2024-03-26
8 2023-11-06 一种样件光学参数测量方法及测量系统 发明专利 CN202311485733.4 CN117760978A 2024-03-26
9 2023-09-20 一种基于波长修正的光学散射测量方法 发明专利 CN202311220188.6 CN117128875A 2023-11-28
10 2023-09-19 一种零级波片特征参数测量方法 发明专利 CN202311222985.8 CN117269069A 2023-12-22
11 2023-09-17 一种紫外到红外宽光谱椭偏测量装置及其光路调试方法 发明专利 CN202311197330.X CN117233098A 2023-12-15
12 2023-08-24 一种薄膜测量中异常光谱识别方法 发明专利 CN202311084419.5 CN117198910A 2023-12-08
13 2023-08-24 一种薄膜测量中正向建模快速退偏的方法及装置 发明专利 CN202311079546.6 CN117191745A 2023-12-08
14 2023-08-21 一种膜厚测量中快速建库的方法 发明专利 CN202311064746.4 CN117194371A 2023-12-08
15 2023-07-22 一种基于方位角灵敏度分析的光学散射测量方法 发明专利 CN202310910937.1 CN117038488A 2023-11-10
16 2023-07-22 一种非理想椭偏系统校准方法 发明专利 CN202310907919.8 CN117030624A 2023-11-10
17 2023-07-18 一种光学散射测量中红外低吸收材料的厚度测量方法 发明专利 CN202310894729.7 CN116753852A 2023-09-15
18 2023-07-11 一种基于带宽反卷积的椭偏测量系统校准方法 发明专利 CN202310850825.1 CN117030623A 2023-11-10
19 2023-06-30 椭偏仪的双旋转与高产率切换控制方法、单片机及系统 发明专利 CN202310804924.6 CN117030622A 2023-11-10
20 2023-06-14 一种非理想椭偏系统的校准方法 发明专利 CN202310713397.8 CN117128871A 2023-11-28
公司地址CompanyAddress

武汉颐光科技有限公司

地址:武汉东湖新技术开发区金融港四路10号6号楼

联系人:颜猛

资质证书qualification certificate
证书图片 名称 发证机构 生效日期 截止日期  
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