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新材料半导体生产的废气怎么处理好

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更新时间:2022-09-12 10:08:52浏览次数:222次

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产品简介

随着我国工业技术的发展,其中半导体行业需求也加大,但随之而来也带有VOC废气对大气污染。半导体行业对生产车间清洁度要求高,因此废气排放风量较大、排放浓度小的。主要来源于芯片或者是线路板出产的清洗、均胶、去胶、刻蚀、显影过程中以及对电路板进行清洗。主要成分有机废气和酸碱废气两类

详细介绍

随着我国工业技术的发展,其中半导体行业需求也加大,但随之而来也带有VOC废气对大气污染。半导体行业对生产车间清洁度要求高,因此废气排放风量较大、排放浓度小的。主要来源于芯片或者是线路板出产的清洗、均胶、去胶、刻蚀、显影过程中以及对电路板进行清洗。主要成分有机废气和酸碱废气两类。在整个工艺加工的过程中将会有部分的有机溶剂大部分通过挥发成为废气排放,这部分挥发的废气主要成分为具有挥发性的VOCs,下面昆山鑫蓝环保小编简单介绍半导体废气处理解决方案。

 

半导体废气处理解决方案:

(1预处理阶段一般采用喷淋塔先对废气进行预处理,去除粉尘以及易溶于水的有害气体。

(2主要处理阶段在此阶段,比较常见而有效方法有UV光催化,焚烧和催化燃烧等。

这几种单一方式各有优劣,根据大多数电子厂废气的情况,在这里我们主要推荐活性炭吸附+催化燃烧组合工艺去除VOCs气体的方案。

1、活性炭吸附

有机废气由风机提供动力,正压或负压进入活性炭吸附,由于活性炭固体表面上存在着未平衡和未饱和的分子引力,因此当此固体表面与气体接触时,就能吸引气体分子,使其浓聚并保持在固体表面,污染物质从而被吸附,活性炭吸附到一定时间后,即可进入脱附流程,脱附后的气体即是浓缩后的vocs气体

2、催化燃烧设备

本净化装置是根据催化燃烧的基本原理设计的,催化净化装置内设加热室、换热室,启动加热装置,进入内部循环,当热气源达到有机物的沸点时,有机物进入催化室进行催化分解成CO2和H2O,同时释放出能量。利用释放出的能量进入吸附床脱附时,此时加热装置*停止工作,有机废气在催化燃烧室内维持自燃,尾气再生,循环进行。余热经过换热器进行回收,便于下次加热进气及余热回收,能量回收效率高,能耗小,有机物得到催化处理。

   

鑫蓝环保科技(昆山)有限公司,专注于大型工厂废气处理、粉尘处理,公司主营产品有:RTO焚烧设备、催化燃烧设备、活性炭吸附箱、防爆除尘器、布袋除尘器、滤筒除尘器、酸碱洗涤塔、静电除油设备等,公司获得多项实用新型证书。本公司生产设备和实施项目具有:节能环保、运行稳定、使用时间长、排放达标、项目投入少、处理效果好、设备噪声低、处理量大、耐摩擦、维修便捷等特点。

如有半导体废气处理方面的问题需要解决,欢迎与我们公司取得联系。解决1500+企业废气问题,一厂一方案过环评



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