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药品包衣研磨分散机药剂用的包衣成分大概为HPMC,丙烯酸树脂,乙醇,*,聚乙二醇,色素,制作方式为使用中等黏度的HPMC,以乙醇作分散剂,然后加水溶解,加入*、*后进行研磨处理。医药级*颗粒粒径一般<0.1μm,即通常所说的纳米级。材料达到纳米尺度以后会表现出很多.. 纳米尺寸效应.., 以零维的微观颗粒来讲, 当颗粒尺寸达到纳米尺度以后, 其团聚效应显著增加, 团聚体内颗粒的相互吸引力也显著增大, 分散难度变大。
CIK肠溶性包衣研磨分散机NK2000系列特别适合于超细悬浮液和乳液的生产。除了高转速和灵活可调的定转子间隙外,在摩擦状态下工作,也就被称做湿磨。在锥形转子和定子之间有一个宽的入口间隙和窄的出口间隙,在工作中,分散头偏心运转使溶液出现涡流,因此可以达到更好的研磨分散的效果。
NK2000采用了三级错齿磨头定转子,磨头定转子间隙在0.2-0.7之间,间隙可通过调节高速研磨机本身的调节柄来调节设备间隙,在转速不变的情况下,间隙越小,速胶体磨研磨、分散效果会越好。故名思意,高速胶体磨有着非比寻常的转速,CIK工程师们通过改变皮带轮的传动比例,使原本只有3000rpm的电机,经过传动后设备转速可以高达9000rpm。实践证明,在磨头定转子间隙不变的情况下,转速越高,高速研磨机研磨、分散效果越好。如果客户想要使物料达到更好的效果,我们提供丹弗斯变频器供客户选择,高速胶体磨在变频后转速可以达到14000rpm,是国内设备转速的4-5倍,可谓是极速。
包衣研磨分散机NK2000结构机理:由电动机、连接体、磨头等组成,磨盘采用优质不锈钢锻压制成,磨盘表面有三个以上沟槽,分为三级。每一级的沟槽刀齿数量、方向及宽度不同,越是向外延伸一级,磨片精度越高、齿距越小、线速度越长、物料越磨越细、刀齿的数量越多、剪切面越大、线速度越长、流体速度越快、细化效果越好。机械密封分:硬质内装机械密封、外装双面硬质机械密封、金属波纹硬质机械密封等三种密封可选。磨盘刀齿根据需要可以进行特殊氮化处理,增强刀齿的硬度,起到更耐磨、耐腐蚀的作用。转磨与定磨可根据物料粘度、产量、颗粒细度进行手工调节,其功效为剪切率大、线速度长、*、处理量大、均质细化效果好。
包衣研磨分散机与国内胶体磨的性能比较:
一、转速和剪切速率:
CIK胶体磨,可选择德国机械密封,转速可以达到15000转
F=23/0.7X1000=32857
S-1
F=40/0.7/X1000=57142
S-1
国内胶体磨,可选择机械密封一般3000转,大约在14293-215440
S-1
通过转速比较可知,这是乳粉碎研磨的重要因素,相当于前者是后者的2-3倍。
二、胶体磨头和间距:
CIK胶体磨,可以选择六种不同的模块头,实现多种功能,如三级乳化模块,超高速模块,NK胶体模块,NKD胶体模块,批次粉液液混合模块,连续粉液混合模块,间距可调,可实现1-10微米小粒径材料加工。
国内胶体磨,只有一种模块头,粒径细度有限,100微米以下较困难,重复性差。
三、机械密封:
CIK胶体磨,双机械密封,易于清洗,将泄漏降至zui低,可24小时不停运转;
国内胶体磨,单机械密封或轴封,泄漏故障率高,产品泄漏进入马达,造成马达烧毁。
四、清洗:
CIK胶体磨,立式,皮带驱动,易于维护,可有效保护马达及齿轮箱,防止损坏,符合流体流动原理,具有CIP/SIP在线清洗,在线杀菌功能,无需拆卸,机器设计*,立式结构符合流体原理,清洗更简便。
国内胶体磨,卧式或立式(马达一体式),轴承部分受力较大,易于损坏,维护保养复杂,通常情况,需要拆卸机器进行清洗。
NKD2000系列设备型号表:
型号 | 流量 L/H | 转速 rpm | 线速度 m/s | 功率 kw | 入/出口连接 DN |
NKD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
NKD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
NKD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
NKD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
NKD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
NKD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
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