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北京声瑞高科贸有限公司-上海办事处
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本多超声波清洗机W-200-HFMK II 适合细腻的清洗
因为中频清洗，对工件损伤很少。并且和低频清洗相比，具有清洗效果均匀，噪音小的特点。
容易清洗微小的赃物
适合于清洗硬盘，半导体，液晶等微小的赃物。
适合于染色，脱气，溶解，搅拌等用途
使用于磁头，镜片等的染色和脱气，化学品的溶解和搅拌等。
型号：W-200-HFMK II T
振荡方式：单频振荡
zui大功率：200W（可调整功率）
振荡频率：200KHz
振荡器电源：AC100V/6A、AC200、220V/3A
（定货时选择）
外形尺寸（mm）W×D×H：3000×430×140
使用液温范围：50℃
换能器类型：投入型换能器、振动板型换能器
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