CMD2000超细氧化铝浆料研磨分散机

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IKN研磨分散机设计*，能够延长易损件的使用时间，因此尤其适合高硬度和高纯度物料的粉碎。可以一机多用，也可以单独使用，且粉碎粒度范围广，成品粒径可以进行调整。

德国分散机剪切分散机各种工作头的种类及相应线速度相同，实验过程中的工艺参数在工业化后之后不用重新调整，从而将机器型号升级到工业化的过程中的风险降到zui低。

氧化铝具有硬度高、化学稳定性好等优点，已被广泛应用在陶瓷、无机膜、研磨抛光材料等领域。用作分析试剂、有机溶剂的脱水、吸附剂、催化剂、冶炼铝的原料、耐火材料。

氧化铝的分散问题

近年来，已超细氧化铝粉体研制功能陶瓷材料和新型功能复合材料受到人们的广泛关注。但超细氧化铝粉体比表面积大，表面活性高，单个超细颗粒往往处于不稳定状态，颗粒之间因为相互吸引而团聚，易于失去超细粉体*的性能，因此超细氧化铝粉体的分散，是超细氧化铝粉体走向实用化的关键。

在水溶液中，氧化铝浆料中的亚微米机微粒由于受静电引力等作用发生团聚，出现絮凝，分层等现象，破坏浆料的分散稳定性。为此浆料的分散稳定性成为人们研究的重点。影响稳定性的因素有很多，如：分散剂种类及用量、分散设备的选择、粉体的粒度及表面性质、PH值、温度等。

当物料工艺确定后，影响分散稳定性的wei一因素就是浆料中粒子的半径，半径越小，沉降越慢、稳定性越高。这种情况下要提高分散稳定性就必须选用高品质的分散设备，来获得更好的物料粒径，提高分散的均匀性，*CMSD2000系列研磨分散机，*的结构，胶体磨+分散机一体化设备，14000rpm超高转速，效果好、效率高。

石墨烯研磨分散设备采用上海IKN技术，*创意，融化理念。将IKN高剪切胶体磨进行进一步的改良，在原来CM2000系列的基础上，将单一的胶体磨磨头模块，改良成两级模块，加入了一级分散盘（均质盘、乳化盘）。从而形成改良型的胶体磨，先研磨后分散（均质、乳化），将物料的处理一步到底的完成，我们将这种改良的胶体磨也称为“研磨分散机"。

IKN研磨分散机采用德国博格曼双端面机械密封，在保证冷却水的前提下，可24小时连续运行。而普通乳化机很难做到连续长时间的运行，并且普通乳化机不能承受高转速的运行。通过梳齿状定子切割破碎，缝隙疏密决定细度大小，超高线速度的吸料式叶轮提供*切割力。

CMSD2000/4研磨分散机的技术优势主要体现在以下几个方面:

1.转速相较其它厂家2900转左右高出三倍

CMSD2000/4为立式分体式结构，通过皮带传动，并实现加速，加速比为3：1即正常50HZ频率下转速为9000RPM，外加变频可达14000RPM。CMSD2000/4分散头直径为55mm。

由此可得线速度（V=3.14*D（转子直径）*n/60）

V1= 3.14*0.055*9000/60 =24M/S

V2=3.14*0.055*14000/60=40M/S

2.磨头结构更经密并有du特设计，使之分散作用力更大，效果更好。

剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

– 剪切速率F(s-1)=v速率(m/s)/g定-转子间距(m)

由上可知，剪切速率取决于以下因素：

– 分散头的线速率

– 转子-定子间距

结合1，2中的数据可得：

F1=24/0.7*1000=32857S-1

F2=40/0.7*1000=57142S-1

普通转速为3000RPM的机型大约在14293~21544S-1

3.德国进口双端面机械密封拥有du特结构和特殊材质保证高速运转和长使用寿命

满足以下条件使得机械密封的使用寿命更长：

- 可允许的压力比率

- 充份的冷却和湿度

- 材料的合适搭配

该密封件配有压力平衡罐，保证机封上下端面受力平衡，同时可通过自身结构的泵环效应和热虹吸效应实现冷却水的自动循环。该循环系统为du立系统，与外界无接触，平衡罐内冷却液可选纯化水或合适的溶剂。通过换热管实现热交换。

4.CMSD2000/4研磨分散机与大型工业管线式量产机型配置相同。ge种工作头的种类及相应线速度相同，实验过程中的工艺参数在工业化后之后不用重新调整，从而将机器型号升级到工业化的过程中的风险降到zui低。

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