氧化铝催化剂胶体磨

参考价	面议

参考价

面议

具体成交价以合同协议为准

公司名称上海依肯机械设备有限公司
品牌
型号CMSD2000
所在地上海
厂商性质生产厂家
更新时间2017/5/19 15:01:59
访问次数973

产品标签:

氧化铝催化剂胶体磨催化剂胶体磨氧化铝研磨机氧化铝研磨分散机 IKN氧化铝催化剂胶体磨

在线询价收藏产品点击查看联系电话

索取相关资料

公司介绍主营产品

　　上海依肯机械设备有限公司是一家中德合作经营企业，依肯通过引进德国IKN*技术和科学管理模式，形成了完整的研发、制造及营销体系。她保持与的混合乳化技术同步，同时拥有*的技术研究人才和生产能力，为中国及提供多元化的产品及技术服务。她已经发展成为中国流体高剪切混合设备行业的者。
　　
　　公司主要研发，生产制造，销售流体领域的几大系列：一乳化机（乳化机,高剪切乳化机，管线式乳化机）二均质机，三分散机，四胶体磨，五乳化泵，六成套设备等系列。为混合、分散、均质、悬浮、乳化、湿磨、粉液混合等领域提供高品质的解决方案，设备加工材料细度可达微纳米级别。依肯公司作为国内的*供应商，凭借着对广大客户要求的深入了解，为客户解决流程工艺中的难题，混合技术，乳化均质，粉液混合技术和合理的配置方案，确保设备运行稳定的可靠性。她已广泛应用于石油、石化、化工、食品、生物制药、核工业、精细化工等领域，并成功为国家重点工程配套，部分产品返销国外，取得了显著的经济效益和社会效益。
　　
　　“追求*品质”是依肯公司是的宗旨。“成功源自创新”亦是公司全体员工一直努力追随的目标。上海依肯机械设备有限公司将以求实、创新的企业精神走向市场。在您在关注和支持下、她将以不断发展壮大，在混合乳化设备制造的广阔天地中散发出*的魅力

展开显示更多内容

分散机乳化机研磨机均质机胶体磨

产品简介在线询价

氧化铝催化剂胶体磨,催化剂胶体磨，氧化铝研磨机，氧化铝研磨分散机,IKN,ikn催化剂胶体磨是机通过皮带传动带动转齿（或称为转子）与相配的定齿（或称为定子）作相对的高速旋转，被加工物料通过本身的重量或外部压力（可由泵产生）加压产生向下的螺旋冲击力，透过定、转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及分

氧化铝催化剂胶体磨产品信息

氧化铝催化剂胶体磨,催化剂胶体磨，氧化铝研磨机，氧化铝研磨分散机,IKN氧化铝催化剂胶体磨,ikn催化剂胶体磨是机通过皮带传动带动转齿（或称为转子）与相配的定齿（或称为定子）作相对的高速旋转，被加工物料通过本身的重量或外部压力（可由泵产生）加压产生向下的螺旋冲击力，透过定、转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及分散的效果。

氧化铝催化剂氧化铝载体是指白色粉末状或已成型的氧化铝固体，是一类使用的催化剂载体，约占工业上负载型催化剂的70%。氧化铝有多种形态，不仅不同形态有不同性质，即使同一形态也因其来源不同，而有不同的性质，如密度、孔隙结构、比表面积等。

这些性质对于用做催化剂载体的氧化铝有重要的意义。氧化铝大多是从其氢氧化物（又称水合氧化铝或氧化铝水合物）制备的。

氧化铝载体是指白色粉末状或已成型的氧化铝固体，是一类使用的催化剂载体，约占工业上负载型催化剂的70%。氧化铝有多种形态，不仅不同形态有不同性质，即使同一形态也因其来源不同，而有不同的性质，如密度、孔隙结构、比表面积等。

这些性质对于用做催化剂载体的氧化铝有重要的意义。氧化铝大多是从其氢氧化物（又称水合氧化铝或氧化铝水合物）制备的。

,催化剂胶体磨的粉碎效果

影响研磨粉碎结果的因素有以下几点

,催化剂胶体磨，氧化铝研磨机，氧化铝研磨分散机

2 胶体磨磨头头的剪切速率（越大，效果越好）

3 胶体磨头的齿形结构（分为初齿，中齿，细齿，超细齿，约细齿效果越好）

4 物料在研磨腔体的停留时间，研磨粉碎时间（可以看作同等的电机，流量越小，效果越好）

5 循环次数（越多，效果越好，到设备的期限，就不能再好）

线速度的计算

剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-转子间距 (m)

由上可知，剪切速率取决于以下因素：

转子的线速率

在这种请况下两表面间的距离为转子-定子间距。
IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm

速率V= 3.14 X D（转子直径）X 转速 RPM / 60

IKN纳米胶体磨与国内胶体磨的性能比较：

一、转速和剪切速率：IKN纳米胶体磨，可选择德国机械密封，转速可以达到15000转F=23/0.7X1000=32857S-1F=40/0.7/X1000=57142S-1国内胶体磨，可选择机械密封一般3000转，大约在14293-215440S-1通过转速比较可知，这是乳粉碎研磨的重要因素，相当于前者是后者的2-3倍

详情请接洽上海依肯,段，手机，(同) ，公司有样机供客户实验

二、胶体磨头和间距：IKN纳米胶体磨，可以选择六种不同的模块头，实现多种功能，如三级乳化模块，超高速模块，CM胶体模块，CMO胶体模块，批次粉液液混合模块，连续粉液混合模块。间距可调，可实现1-10微米小粒径材料加工国内胶体磨，只有一种模块头，粒径细度有限，100微米以下较困难，重复性差

三、机械密封：IKN纳米胶体磨，双机械密封，易于清洗，将泄漏降至zui低，可24小时不停运转国内胶体磨，单机械密封或轴封，泄漏故障率高，产品泄漏进入马达，造成马达烧毁

胶体磨	流量*	输出	线速度	功率	入口/出口连接
类型	l/h	rpm	m/s	kW
CM 2000/4	700	9,000	23	2.2	DN25/DN15
CM 2000/5	3,000	6,000	23	7.5	DN40/DN32
CM 2000/10	8,000	4,200	23	22	DN50/DN50
CM 2000/20	20,000	2,850	23	37	DN80/DN65
CM 2000/30	40,000	1,420	23	55	DN150/DN125
CM 2000/50	80,000	1,100	23	110	DN200/DN150
*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到zui大允许量的10%。