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胶体磨和分散机的一体化设计相对于胶体磨和分散机的串联而言更具优势。串联的话存在时间差，当物料通过胶体磨之后，磨细后物料会出现抱团的现象，再经过分散机分散，效果不是很好。而CMD高剪切研磨分散机的话，物料磨细后，瞬间又通过分散工作组，进行分散，在物料还未抱团之前，就进行了分散，一个瞬间作用，效果会好很多。
当所处理的物料要达到非常细的程度时候，对于设备的要求就会非常的高。而从设备角度来考虑的话，能够达到超细的效果，要具备以下条件：
1、*的剪切力，CMD2000系列研磨分散机转速高达14000rpm，线速度为44m/s，是普通设备的4-5倍。
2、高精密度的定转子，超细研磨分散机的定转子分为两级，一级为胶体磨磨头，采用三级错齿结构，磨头的沟槽的深度角度都符合流体力学的设计。第二级是分散头，IKN分散头有六种不同的规格，从粗到细，越来越密，分散效果佳。
3、机械密封，超细的效果取决于高的转速，而转速越高机械密封的发热量就会越大，设备的机械密封是否能够耐的住这么高的转速，国内大多数厂家的机械密封是无法做到的，而IKN研磨分散机采用德国博格曼双端面机械密封，并配有机封冷却系统，可以承受超高的转速，稳定性高。
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详情请接洽上海依肯,段，手机，(同)
IKN高剪切研磨分散机，在多个行业都有着充分的应用：
1、化工行业：纳米级白炭黑的分散，可以还原到纳米级；
2、锂电池行业：石墨烯、碳纳米管的研磨分散，粒径可细化至2-3μm；凹凸棒、陶瓷粉末的研磨分散等。
3、食品行业：植物蛋白饮料，如花生奶、杏仁露等，粒径也可细化到2-3μm。
当然还有很多很多，凡是需要研磨、分散、均质、乳化的，超细研磨分散机都是一个不错的选择。更多信息请段。
高剪切研磨分散机CMD2000系列研磨分散设备是IKN（上海）公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装，我们将三级变跟为一级，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择）
CMD2000系列高剪切研磨分散机选型表
型号 | 流量 L/H | 转速 rpm | 线速度 m/s | 功率 kw | 入/出口连接 DN | ||
CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 | ||
CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 | ||
CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 | ||
CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 | ||
CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 | ||
CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 | ||
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到zui大允许量的10%。 | |||||||
1.表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
2.处理量取决于物料的粘度，稠度和zui终产品的要求。
3.如高温，高压，易燃易爆，腐蚀性等工况，必须提供准确的参数，以便选型和定制。
4.本表的数据因技术改动，定制而不符，正确的参数以提供的实物为准.
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