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美国恩科优N&Q系列光刻机4008

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具体成交价以合同协议为准
  • 公司名称上海绘吉电子科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       号
  • 所  在  地上海市
  • 厂商性质其他
  • 更新时间2022/9/9 8:37:11
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上海绘吉电子科技有限公司主要代理欧、美、日及科学仪器、工业质检仪器及相关消耗品,专业涉及高校、新能源、钢铁行业、科研研究及轻工化工、在国内特别是华东地区具有广泛的客户基础和良好的商业信誉。经过几年的发展,绘吉公司已经在同行业中确立了多方面的好的地位,无论在公司规模、人员素质、经营品种、销售能力和售后服务等各方面获得了同行及用户的广泛认可。 上海绘吉电子科技有限公司从事分析类仪器(荧光光谱仪,质谱仪,粒度仪,真空系列等分析类设备),电池材料制备设备,实验室仪器,理化分析类仪器,微生物仪器,生理仪器及实验室耗材。。上海绘吉电子科技有限公司从事分析类仪器(荧光光谱仪,质谱仪,粒度仪等分析类设备),德国普发真空设备,电池材料制备设备,实验室仪器,理化分析类仪器,微生物仪器,生理仪器及实验室耗材。上海绘吉-德国普发真空Pfeiffer Vacuum-作为的真空技术解决方案的供应商之一。我们不仅拥有全系列的混合轴承及全磁悬浮涡轮分子泵, 同时还拥有各种旋片泵,干泵,罗茨泵,氦气质谱检漏仪,真空规,四级质谱仪等产品以及真空管件和综合真空系统。 从普发1958年发明涡轮分子泵至今, 我们在分析、研发、镀膜、太阳能、半导体和其他工业领域,始终代表着创新的解决方案、高品质、稳定可靠的产品和的服务。公司自1890年创立至今百余年,现有将近2300名员工,20多家分公司遍布,并且在德国、法国、罗马尼亚、韩国设有生产制造基地。随着中国综合国力的提升,产业结构升级,以及对节能减排,科研和高精尖制造工艺的强烈需求,对真空技术的需求也在不断的提升。作为德国 Pfeiffer Vacuum GmbH 的全资子公司,普发真空技术上海有限公司 Pfeiffer Vacuum (Shanghai) Co., Ltd. 于 2007 年正式入驻中国上海,标志着普发真空在中国的业务已经初具规模,以及公司对中国持续增长的信心。公司现坐落于上海市浦东新区世纪公园附近,并且在江苏无锡建有 4000m2 的售后服务工厂。上海绘吉电子科技有限公司获得深圳科晶智达科技有限公司一级代理权,科晶为研究新一代可充电电池,超级电容器与快速储能材料提供最完整的成套解决方案。方案定位于锂电池的研究市场,主要为大专院校、科研院所以及生产企业提供实验室用的小型混压设备和机械加工与测试等一系列产品,提供研发环节所需的电池能源材料制备相关设备产品与成套实验室方案:“混料-烧料-分析-涂层-成型-封装-测试”设备:球磨机、高温高压炉、材料分析仪、涂层机、轧机、切片机、封装机、电池分析仪等。上海绘吉电子科技有限公司成功和进口公司合作。德国普发真空设备,德国布鲁克仪器有限公司,分析仪器有限公司,美国PE公司,美国热电仪器有限公司,天美科技有限公司,岛津,莱卡仪器,日本horriba,梅特勒等进口公司
激光拉曼光谱,分子荧光光谱,激光粒度仪
美国恩科优N&Q系列光刻机4008
美国恩科优N&Q系列光刻机4008 产品信息

品牌:恩科优(N&Q

型号:NXQ400-8

产地:美国

                                                                         

       恩科优光刻机分为半自动和全自动两大系列。其中,N&Q4000系列光刻机是以半自动系统为主。该系统*的操作性,超高的分辨率,均匀的光学系统,现代*的接近式和接触式光刻及超高的性价比,使恩科优光刻系统已经被全国各地众多企业、研发中心、研究所和高校采用,并成为他们光刻系统的;

二、技术参数:

1、芯片尺寸:5mm~200mm的圆片/方片和不规则碎片(支持对不规则碎片的特殊卡盘设计);

2、曝光波长:350nm-450nm(其它波长可选配);

3、汞灯功率:350W/500W(其它功率可选配);

4、分辨率:优于0.5um

5、曝光模式:支持接近式曝光,各种接触式(真空接触、软接触、硬接触等)曝光;

6、出射光强范围:10mW/cm2~55mW/cm2@405nm

7、支持恒定光强或恒定功率模式;

8、曝光时间:0.1~999.9s

9、对准精度:双高清彩色CCD + 双高清彩色监视器,对准精度可达到0.4微米内;

10、掩膜尺寸:2 x 2英寸到 9 x 9英寸(2 x 2英寸需要掩膜转换器)

11、光强均匀性Uniformity

<±1% over 2 区域;

<±2% over 4 区域;

<±3% over 6 区域;

12、双面光刻:具备背面红外对准(IR BSA)和光学背面对准(OBS BSA),双面对准精度≤2μm

13、电源:高灵敏度光强可控电源。

可选型号:

NXQ400-6 

NXQ400-8

NXQ800-6

NXQ8006 Sapphire

NXQ800-8

三、产品特点:

可选支持单面对准和双面对准设计;

高清晰彩色双CCD镜头采用的分裂视场显微镜镜头(基于无限远修正的CCD镜头设计);双头高清全彩物镜(单视场或分裂视场可供用户灵活选择);

高清彩色双显示屏;

全新气动轴承导轨设计,高精准,低磨损,无需售后维护的;

具有自动执行楔形误差补偿,并在找平后自动定位功能;

操作简易,具有支持多操作员同台使用的友好操作界面;

操控手柄调控模式的设计;

采用LED穿透物镜照明技术,具有对准亮度;

采用基于无限远修正的显微镜镜头架构;

抗衍射反射的高效光学光路设计;

带安全保护功能的温度和气流传感器;

全景准直透镜光线偏差半角: <1.84度;

设备稳定性,耐用性超高;

关键词:传感器
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