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光学表面测量系统 Leica DCM8

参考价面议
具体成交价以合同协议为准
  • 公司名称上海绘吉电子科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       号
  • 所  在  地上海市
  • 厂商性质其他
  • 更新时间2022/9/13 8:30:45
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上海绘吉电子科技有限公司主要代理欧、美、日及科学仪器、工业质检仪器及相关消耗品,专业涉及高校、新能源、钢铁行业、科研研究及轻工化工、在国内特别是华东地区具有广泛的客户基础和良好的商业信誉。经过几年的发展,绘吉公司已经在同行业中确立了多方面的好的地位,无论在公司规模、人员素质、经营品种、销售能力和售后服务等各方面获得了同行及用户的广泛认可。 上海绘吉电子科技有限公司从事分析类仪器(荧光光谱仪,质谱仪,粒度仪,真空系列等分析类设备),电池材料制备设备,实验室仪器,理化分析类仪器,微生物仪器,生理仪器及实验室耗材。。上海绘吉电子科技有限公司从事分析类仪器(荧光光谱仪,质谱仪,粒度仪等分析类设备),德国普发真空设备,电池材料制备设备,实验室仪器,理化分析类仪器,微生物仪器,生理仪器及实验室耗材。上海绘吉-德国普发真空Pfeiffer Vacuum-作为的真空技术解决方案的供应商之一。我们不仅拥有全系列的混合轴承及全磁悬浮涡轮分子泵, 同时还拥有各种旋片泵,干泵,罗茨泵,氦气质谱检漏仪,真空规,四级质谱仪等产品以及真空管件和综合真空系统。 从普发1958年发明涡轮分子泵至今, 我们在分析、研发、镀膜、太阳能、半导体和其他工业领域,始终代表着创新的解决方案、高品质、稳定可靠的产品和的服务。公司自1890年创立至今百余年,现有将近2300名员工,20多家分公司遍布,并且在德国、法国、罗马尼亚、韩国设有生产制造基地。随着中国综合国力的提升,产业结构升级,以及对节能减排,科研和高精尖制造工艺的强烈需求,对真空技术的需求也在不断的提升。作为德国 Pfeiffer Vacuum GmbH 的全资子公司,普发真空技术上海有限公司 Pfeiffer Vacuum (Shanghai) Co., Ltd. 于 2007 年正式入驻中国上海,标志着普发真空在中国的业务已经初具规模,以及公司对中国持续增长的信心。公司现坐落于上海市浦东新区世纪公园附近,并且在江苏无锡建有 4000m2 的售后服务工厂。上海绘吉电子科技有限公司获得深圳科晶智达科技有限公司一级代理权,科晶为研究新一代可充电电池,超级电容器与快速储能材料提供最完整的成套解决方案。方案定位于锂电池的研究市场,主要为大专院校、科研院所以及生产企业提供实验室用的小型混压设备和机械加工与测试等一系列产品,提供研发环节所需的电池能源材料制备相关设备产品与成套实验室方案:“混料-烧料-分析-涂层-成型-封装-测试”设备:球磨机、高温高压炉、材料分析仪、涂层机、轧机、切片机、封装机、电池分析仪等。上海绘吉电子科技有限公司成功和进口公司合作。德国普发真空设备,德国布鲁克仪器有限公司,分析仪器有限公司,美国PE公司,美国热电仪器有限公司,天美科技有限公司,岛津,莱卡仪器,日本horriba,梅特勒等进口公司
激光拉曼光谱,分子荧光光谱,激光粒度仪
光学表面测量系统 Leica DCM8
光学表面测量系统 Leica DCM8 产品信息

 Leica DCM8将高清共聚焦显微技术和干涉测量技术融合在一起,更添加了丰富的附加功能,使各种 材料表面特性的精确再现变得便利起来。为满足您的记录需求,系统的内置百万像素CCD摄像头 和4个LED光源提供非同凡响的真彩成像功能.

  常规技术参数

1.测量原理:非接触式3D双核光学成像轮廓测定法(共聚焦和干涉测量)。

2.功能:高清成像、高清3D形貌、轮廓、坐标、厚度、粗糙度、体积、表面纹理、光谱分析、 色彩分析等。 

3.对比度模式:高清共聚焦、高清干涉测量(PSI、ePSI、VSI)、高清明场彩色、明场、暗场、实时高清RGB 共聚焦。

4.样品高度 标准型:40 mm;包括可调立柱:150 mm;根据要求可提供更高的样品高度。

5.物镜 共聚焦、明场和暗场模式下,放大倍率1.25×至150×;干涉测量模式下,放大倍率5×至 50×。

6.物镜转盘 6位手动式物镜转盆/6位电动式物镜转盆。

7.载物台扫描范围(x、y、z) 垂直:z = 40 mm;水平:XY = 100x75 mm (标准),或= 300x300 mm ()。 根据要求,可提供更大的载物台。

8.垂直扫描范围 共聚焦40 mm,PSI20 mm,ePSI100 mm,VSI10 mm。 

9.照明 LED光源:红色(630nm),绿色(530nm),蓝色(460nm)和白色。

10.图像采集 CCD黑白传感器:1360x1024像素(全分辨率);黑白35FPS 真彩/共聚焦:3FPS(全分辨率),10FPS(半分辨率),15FPS影像共聚焦。

11.样品反射率 0.1%-99%。 

12.尺寸和重量 长x宽x高= 573 mm x390 mm x569 mm;重量:48kg 。

13.工作条件 温度:10°至35°C;相对湿度(RH) < 80%;海拔高度< 2000 m 。

14.隔振 有源或无源 。

15.再现性(50x放大倍率) 共聚焦/VSI:误差= 0.003 mm (3nm);PSI:误差= 0.16nm (0.00016 mm)。 

16.精确度(20x放大倍率) 开环:相对误差< 3%;闭环:误差< 20nm。

  共聚焦模式 

物镜放大倍率:1.25× 2.5× 5× 10× 20× 50× 100× 150×

数值孔径:0.04 0.07 0.15 0.3 0.5 0.9 0.95 0.95 

视场(μm):14032x 10560 7016x 5280 3508x 2640 1754x 1320 877x660 351x264 175x132 117x88 

光学分辨率(X/Y): (μm) 3.5 2.0 0.94 0.47 0.28 0.16 0.14 0.14

纵向分辨率(nm): <3000 <350 <150 <30 <15 <5 <2 <2 

典型测量时间: 3-5s

  干涉测量模式 

物镜放大倍率:5× 10× 20× 50× 

数值孔径:0.15 0.30 0.40 0.50

视场(μm):3508x2640 1754x1320 677x660 351x264 

光学分辨率(蓝光)(X/Y)(μm):0.94 0.47 0.35 0.28 

光学分辨率(白光)(X/Y)(μm):1.12 0.56 0.42 0.33 

纵向分辨率(nm) PSI <0.1;ePSI < 1.0;VSI < 3.0 

垂直扫描速度(μm/s) VSI/ePSI:2.4 – 17μm/s 

典型测量时间 PSI:3 – 6sVSI:10s;ePSI:30s

关键词:传感器
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