PE100RIE等离子刻蚀系统
特点：
等离子刻蚀，是干法刻蚀中见的一种形式，其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体，由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体，从而形成了等离子或离子，电离气体原子通过电场加速时，会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面。某种程度来讲，等离子清洗实质上是等离子体刻蚀的一种较轻微的情况。进行干式蚀刻工艺的设备包括反应室、电源、真空部分。工件送入被真空泵抽空的反应室，气体被导入并与等离子体进行交换，等离子体在工件表面发生反应，反应的挥发性副产物被真空泵抽走。等离子体刻蚀工艺实际上便是一种反应性等离子工艺。近期的发展是在反应室的内部安装成搁架形式，这种设计的是富有弹性的，用户可以移去架子来配置合适的等离子体的蚀刻方法：反应性等离子体（RIE），顺流等离子体（downstream），直接等离子体（directionplasma）。
PE公司为几乎所有的等离子处理应用提供了*的设备，我们很自豪地说，我们的等离子蚀刻系统在各个行业应用中表现优异。我们在控制离子密度，电子温度，和等离子体电位等核心技术上拥有丰富的实际经验，通过几个拥有的关键技术，可以保证获得非常均匀的等离子体蚀刻的效果。
我们的系统是以一个高强度真空室为基础，真空室内的电极可对几乎所有的材料进行处理，并屏蔽真空室内的静电以保护样品。空气或气体通过控制阀进入室内，与样品进行反应，所产生的废气通过真空泵迅速抽离。所使用的气体的类型取决于蚀刻工艺。四氟化碳（CF4）和氧气是常用的气体腐蚀。
等离子体应用强大的RF（射频）系统产生13.56MHz电极的电磁场。通过射频发生器产生的振荡的电场和电离作用，气体分子获得剥离的电子。正离子因为电压差会移向样品，然后与被蚀刻的样品碰撞，并与有机材料在样品表面化学反应。离子还可以通过转移它们的动能来去除某些物质。电子以震荡的形式在真空室内运动，多余的电子会被室壁吸收，因为是室壁是接地的，所以他们能被安全的导出设备。
等离子体处理可应用于所有的基材，甚至复杂的几何构形都可以进行等离子体活化和清洗。等离子体处理时的热负荷及机械负荷都很低，因此，低压等离子体也能处理敏感性材料。
