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涡轮分子泵应用于脉冲激光沉积系统 PLD

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公司名称伯东企业（上海）有限公司深圳办事处
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厂商性质其他
更新时间2024/5/1 15:32:02
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公司介绍主营产品

伯东公司成立于1953 年，范围内有一千七百名员工。伯东企业(上海)有限公司()主要从事半导体设备、电子零部件加工、销售及相关服务工作，集团年营业额约为100亿人民币。伯东公司在国内主要城市：北京、苏州、广州、深圳、成都及厦门设有营业据点。上海伯东真空产品事业部秉承为广大中国客户提供的真空产品、推动中国真空工艺发展、承担企业社会责任为经营理念，已累计为超过10,000家企业提供真空服务，覆盖工业、半导体、镀膜、科研和分析行业。上海伯东代理品牌包含：德国Pfeiffer 全系列真空产品、美国 KRI 离子源、美国Brooks Polycold 制冷机，美国HVA 真空阀门，美国 inTEST(Temptronic)高速温度循环测试机，离子蚀刻机，真空镀膜系统及配套真空零配件等。上海伯东作为国际真空品牌代理商，全权负责在中国地区的销售和维修服务，99% 使用原厂进口零部件以及国外受训维修工程师；拥有的拆解，维修，校正能力并提供24小时在线服务。

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冲击试验箱,交变试验箱,水浴,油浴

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涡轮分子泵应用于脉冲激光沉积系统 PLD

涡轮分子泵应用于脉冲激光沉积系统 PLD 产品信息

涡轮分子泵应用于脉冲激光沉积系统 PLD
脉冲激光沉积 Pulsed Laser Deposition, PLD, 是一种利用激光对物体进行轰击, 然后将轰击出来的物质沉淀在不同的衬底上, 得到沉淀或者薄膜的一种手段. PLD 系统由多个真空腔体组成, 整个系统需要超高真空且不能引入任何杂质, 对环境的清洁度要求较高, 必须配备无油干泵和分子泵抽真空. 由于各个辅助腔体体积较小, 因此特别适合使用 Pfeiffer Hicube 系列分子泵组. 上海伯东普发 Pfeiffer 分子泵组因其结构紧凑体积小, 清洁无油（前级泵配备干泵) , 抽速快, 极限真空度高达 10-11mbar 等优点广泛应用于此设备.

上海伯东脉冲激光沉积系统 PLD 客户案例：某大学电信系脉冲激光沉积系统
1. 系统功能：主要用于 Mn 氧化物等复杂材料膜。
2. 涡轮分子泵真空度要求: 真空度< 1x10^-⁶pa
3. 样品尺寸: 6英寸
4. 基片旋转, 加热温度：750℃
5. 膜生长控制模式: 镀率 / 厚度 / 时间控制模式
Pfeiffer 涡轮分子泵
真空系统配置:超高真空系统配置:

	涡轮分子泵 HiPace 400 接口: DN 100 CF-F 极限真空: < 5X10-10 mbar 氮气压缩比: > 1X1011
	涡轮分子泵 HiPace 80 接口: DN 63 CF-F 极限真空: < 5X10-10 mbar 氮气压缩比: > 1X1011
	隔膜泵 MVP 040 口径: G1/4” 极限真空: ≦5 mbar 抽速: 2.3 m³/h

Pfeiffer 涡轮分子泵抽速范围 10 至 2700 L/S, 转速 90,000 rpm, 极限真空 1E-11 mbar, 对小分子气体具有更高的压缩比, 实践证明 Pfeiffer 涡轮分子泵运行时间可以达到 100,000 小时! 普发分子泵提供复合轴承分子泵和五轴全磁浮分子泵二大系列满足不同应用, 推荐搭配 Pfeiffer 旋片泵和干泵共同使用. 更多分子泵典型应用 >>

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