CMSD2000硅铝比分子筛高速剪切研磨分散机

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分子筛上海依肯机械的高速剪切研磨分散机目前已在青岛、泸州、重庆、北京、烟台等地大量使用

 

分子筛是一类具有规则可调变均匀孔径的多孔材料，具有很大的比表面积和孔容。对多种气体有非常好的吸附性能。分子筛具有规整的孔道结构，已被作为催化材料、气体分离与吸附剂、离子交换剂等广泛用于石油与天然气加工、精细化工、环保与核废料处理等领域。具有更好的热稳定性和水热稳定性。

在工业上，孔隙率高且通常用于气体或蒸气混合物分离的吸附剂主要有沸石分子筛、活性炭、活性粘土、硅胶及插性氧化铝。

 

沸石分子筛是结晶硅铝酸盐，以其规整的晶体结构、均匀*的孔分布和可调变的表面性质在吸附分离领域得到广泛应用。它在气体分离过程中备受欢迎的一些*性能是：

A. 晶体三维微孔结构赋予其很高的热稳定性和水热稳定性；

B. 与活性炭等吸附剂不同，其孔结构均匀*，孔大小分布单一；

c．通过不同骨架外阳离子交换，可以调变其孔的尺寸；

d．通过改变骨架硅铝比，可调变其表面极性；

e．与其它类型吸附剂相比，即使在较高的温度和较低的吸附质分压下，仍有较高的吸附容量。

硅铝酸盐分子筛胶体磨,硅铝酸盐分子筛胶体磨,硅铝酸盐胶体磨粉碎效果

 

 

影响研磨粉碎结果的因素有以下几点

 

2 胶体磨磨头头的剪切速率  （越大，效果越好）

3 胶体磨头的齿形结构（分为初齿，中齿，细齿，超细齿，约细齿效果越好）

4  物料在研磨腔体的停留时间，研磨粉碎时间（可以看作同等的电机，流量越小，效果越好）

5 循环次数（越多，效果越好，到设备的期限，就不能再好）

 

线速度的计算

剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-转子 间距 (m)

由上可知，剪切速率取决于以下因素：

转子的线速率

在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。 
IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm  

 

速率V=  3.14 X  D（转子直径）X 转速 RPM  /   60

 

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粉碎研磨分散的本质是通过能量的输入使不相溶的两相或多相达到互相包裹，近似稳定均一状态的做功过程。即形成乳液或悬浮液的条件是，在某一能量水平上， 各种微滴颗粒集聚的速度与分散的速度达到动态的平衡。

IKN胶体磨由电动机通过皮带传动带动转齿（或称为转子）与相配的定齿（或称为定子）作相对的高速旋转，被加工物料通过本身的重量或外部压力（可由泵产生）加压产生向下的螺旋冲击力，透过定、转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果

 

为了达到巨大的能量输入，IKN采用提高定转子转速的方法。在电机固定三千转的前提下，我们采用立式的结构通过皮带加速达到15000转。这很容易做到，但重要的是其它的部件能否能在高转速下保持稳定——轴承的强度够不够?机械密封会不会因为产生大量的热而损毁泄露？主轴会不会偏振的很厉害，定转子是否会发生摩擦?这些是IKN的关注点，也应该是广大客户在选型时应该重视的几个方面。

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   根据一些行业的特殊要求, IKN 在CM2000系列胶体磨的基础上又开发了一款CMS2000高速胶体磨，转子的线速度可以达到40M/S。研磨分散效果更好，研磨粒径分布更小。

       超高速胶体磨的细化作用一般来说要强于均质机，但它对物料的适应能力较强（如高粘度、大颗粒），所以在很多场合下，它用于高粘度的场合。在固态物质较多时也常常使用胶体磨进行细化。 

       CMS2000的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

     三级错齿结构的研磨转子，配合精密的定子腔。此款高速胶体磨比普通的卧式胶体磨的速度达到3倍以上,zui小的转速可以达到14000RPM。所以可以达到更好的分散湿磨效果。

 

设备等级：化工级、卫生I级、卫生II级、无菌级
电机形式：普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、
电源选择： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
电机选配件： PTC 热保护、降噪型
超高速胶体磨材质：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti
超高速胶体磨选配：储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车
超高速胶体磨表面处理：抛光、耐磨处理
进出口联结形式：法兰、螺口、夹箍
胶体磨选配容器：本设备适合于各种不同大小的容器

高速胶体磨	流量*	输出	线速度	功率	入口/出口连接
类型	l/h	rpm	m/s	kW
CMS 2000/4	700	14000	40	4	DN25/DN15
CMS 2000/5	5,000	10,500	40	11	DN40/DN32
CMS 2000/10	10,000	7,300	40	22	DN50/DN50
CMS 2000/20	30,000	4,900	40	45	DN80/DN65
CMS 2000/30	60,000	2,850	40	75	DN150/DN125
CMS 2000/50	100000	2,000	40	160	DN200/DN150
*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到zui大允许量的10%。

1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

2 处理量取决于物料的粘度，稠度和zui终产品的要求。

3 如高温，高压，易燃易爆，腐蚀性等工况，必须提供准确的参数，以便选型和定制。

4 本表的数据因技术改动，定制而不符，正确的参数以提供的实物为准。

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