CMS2000连续式胶体磨，在线式胶体磨

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详情请接洽上海依肯,段，手机，(同) ，公司有样机供客户实验   

IKN管线式高剪切胶体磨与卧式胶体磨比较：

转速和剪切力：

国内胶体磨，3000/4700 RPM直联电机的转速决定转子转速

线速度：V=3.14X0.55X3000/60=9 M/SV=3.14X0.55X4700/60=14M/S

作用力：F=9/0.3X1000-=30000 S-1F=14/0.3X1000=42000 S-1

IKN高剪切胶体磨，9000/14000RPM通过皮带加速

线速度：V= 3.14X0.055X90000/60=26 M/SV=3.14X0.055X14000/60=44 M/S

作用力：F=23/0.2X1000=115000S-1F=40/0.2/X1000=200000S-1

这是研磨粉碎的重要因素，相当于后者是前者的4-5倍

设备设计构造：

国内胶体磨，卧室直联结构，运行时间长，容易造成轴的偏心，运转不正常，需要专业的人员拆开内部结构更换。而且需要更换损害的乳化头及轴

IKN高剪切胶体磨，立式分体结构，运行时间长，不易造成轴的偏心，容易更换，而且只要更换相应的皮带，一般的人员可以操作。

密封：

国内胶体磨，填料密封或骨架密封，单机械密封或轴封，泄漏故障率高，产品泄漏进入马达，造成马达烧毁

IKN胶体磨，双机械密封，易于清洗，将泄漏降至zui低，可24小时不停运转，特殊德国PDFE轴封，可以运行10000小时，可选择德国高品质机械密封，在一般的情况下，我们的机械密封可以zui大承受16bar 压力，根据机械密封的压力一般要高于密封腔体的压力2-3bar ,这就决定我们的入口zui大压力可以达到12-13 bar .

产品效果：

国内胶体磨，粒径细度有限，10微米以下较困难，重复性差，产品粒径分布不均匀

 

IKN高剪切胶体磨，可实现0.1-1微米的颗粒加工，粒径分布均匀，纳米级分散乳化粉碎

连续式胶体磨是

细化作用一般来说要弱于均质机，但它对物料的适应能力较强（如高粘度、大颗粒），所以在很多场合下，它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。在固态物质较多时也常常使用胶体磨进行细化。 连续式胶体磨，在线式胶体磨，管道胶体磨，纳米胶体磨，进口胶体磨

       CM2000系列是专门为胶体溶液生产所设计，特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。CM2000的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

     三级错齿结构的研磨转子，配合精密的定子腔。此款立式胶体磨比普通的卧式胶体磨的速度达到3倍以上,zui小的转速可以达到14000RPM。所以可以达到更好的分散湿磨效果。

 

连续式胶体磨的有点处理量大，适合工业化在线连续生产；
 ◆ 粒径分布范围窄，匀度高；
 ◆ 省时、高效、节约能源；
 ◆ 精密铸造的整体式机架和经精密动平衡测试的每道转子，确保整机运行噪音低，运转平稳；
 ◆ 消除批次间生产的品质差异；
 ◆ *，物料*通过粉碎分散剪切；
 ◆ 具有短距离、低扬程输送功能；                              
 ◆ 使用简单，维修方便；
 ◆ 可实现自动化控制；
 ◆ 集装式机械密封，保证物料无泄漏；
 ◆ 单机处理量从1～120m3/h。

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