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PLc2000-在线式吸粉式双入口混合分散机
简单介绍： 在线式吸粉式双入口混合分散机双入口混合分散机是由三组定转子组成，三组工作头同时运转，可以实现分散、乳化等多种功能，并且IKN均质乳化机解决了转速分散乳化设备提速的问题108900
2025/3/26
CMD2000-环氧树脂改性高速分散机
简单介绍： 环氧树脂改性高速分散机采用德国博格曼双端面机械密封，在保证冷却水的前提下，可24小时连续运行。而普通分散机很难做到连续长时间的运行，并且普通分散机不能承受高转速的运行108900 2025/3/26
CMD2000-水相剥离剪切法制备石墨烯的设备
简单介绍： 水相剥离剪切法制备石墨烯的设备设计*，能够延长易损件的使用时间，因此尤其适合高硬度和高纯度物料的粉碎。可以一机多用，也可以单独使用，且粉碎粒度范围广，成品粒径可以进行调整。119800 2024/7/8
CM2000-GMP卫生级无菌胶体磨
简单介绍： GMP卫生级无菌胶体磨设计*，能够延长易损件的使用时间，因此尤其适合高硬度和高纯度物料的粉碎。可以一机多用，也可以单独使用，且粉碎粒度范围广，成品粒径可以进行调整。119800 2024/7/8
ERS2000-水性丙烯酸涂料高速分散机
简单介绍： 水性丙烯酸涂料高速分散机可以处理量大，运转更平稳，拆装更方便,适合工业化在线连续生产，粒径分布范围窄，分散效果佳，*，物料*通过分散剪切。119800 2024/7/8
CMD2000-超细氧化铝浆料研磨分散机
简单介绍： 超细氧化铝浆料研磨分散机设计*，能够延长易损件的使用时间，因此尤其适合高硬度和高纯度物料的粉碎。可以一机多用，也可以单独使用，且粉碎粒度范围广，成品粒径可以进行调整。119800 2024/7/8
CMD2000-CMC羧甲基纤维素改进型胶体磨
简单介绍： CMC羧甲基纤维素改进型胶体磨具有设计紧凑、实用新型，外形美观、密封良好、性能稳定、操作方便、装修简单、经久耐用、适应范围广、生产效益高等特点、是处理精细物料较理想的加工设备。119800 2024/7/8
CM2000-*混悬液新型德国胶体磨
简单介绍： *混悬液新型德国胶体磨三级错齿结构的研磨转子，配合经密的定子腔，灵活调控定转子研磨间隙。此款立式胶体磨比普通的胶体磨的速度达到3倍以上,的转速可以达到14000RPM。所以可以达到更好的分散湿磨效果。119800 2024/7/8
CMS2000-橡胶助剂连续式胶体磨
简单介绍： 橡胶助剂连续式胶体磨是对流体物料进行精细加工的机械。它综合了均质机、球磨机、三辊机、剪切机、搅拌机等机械的多种性能，具有*的超微粉碎、分散乳化、均质、混合等功效。物料通过加工后，粒度达2～50微米，均质度达90%以上，是超微粒加工的理想设备。119800 2024/7/8
CM2000-鹿茸鹿鞭高速胶体磨
简单介绍： IKN高速胶体磨是透过胶体磨定、转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果。119800 2024/7/8
ERS2000-水性环氧树脂涂料剪切乳化机
简单介绍： 水性环氧树脂涂料剪切乳化机采用优化设计理念，将先x的技术与创x的思维有效融合，并体现在具体的设备结构设计中，为设备稳定运行提供了保证. 采用优化设计理念，119800 2024/7/8
ERS2000-环氧改性有机硅树脂进口乳化机
简单介绍： 环氧改性有机硅树脂进口乳化机采用优化设计理念，将先x的技术与创x的思维有效融合，并体现在具体的设备结构设计中，为设备稳定运行提供了保证. 通过梳齿状定子切割破碎，缝隙疏密决定细度大小，超高线速度的吸料式叶轮提供*切割力。119800 2024/7/8
ERS2000-芳纶浆料高剪切分散机
简单介绍：芳纶浆料高剪切分散机可以处理量大，运转更平稳，拆装更方便,适合工业化在线连续生产，粒径分布范围窄，分散效果佳，*，物料*通过分散剪切。采用优化设计理念，将先x的技术与创x的思维有效融合，并体现在具体的设备结构设计中，为设备稳定运行提供了保证.通过梳齿状定子切割...119800 2024/7/8
CMSD2000-环保型有机硅树脂立式研磨分散机简单介绍： 环保型有机硅树脂立式研磨分散机采用整体式机械密封，zui大程度上解决了高速运转下的物料泄漏以及冷却介质污染等问题，安装与更换方便快捷. 并采用国x先x的受控切割技术，将物料粉碎细度控制在设定范围之内，满足生产中的粗、细及超细湿法粉碎的要求.119800 2024/7/8
ER2000-无机纳米材料德国分散机简单介绍： 无机纳米材料德国分散机设计*，能够延长易损件的使用时间，因此尤其适合高硬度和高纯度物料的粉碎。可以一机多用，也可以单独使用，且粉碎粒度范围广，成品粒径可以进行调整。119800 2024/7/8