CMSD2000纳米二氧化硅改性丙烯酸树脂研磨分散机

纳米二氧化硅改性丙烯酸树脂研磨分散机 采用整体式机械密封，*上解决了高速运转下的物料泄漏以及冷却介质污染等问题，安装与更换方便快捷.
新技术 采用国x先x的受控切割技术，将纤维类物料粉碎细度控制在设定范围之内，满足生产中的粗、细及超细湿法粉碎的要求.

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纳米二氧化硅改性

近年研发的丙烯酸树脂/纳米SiO2复合材料不但保持了有机高分子乳液成膜性好、涂膜透明性高和优良的柔韧性，而且具有无机物的不燃性、耐摩擦性、耐溶剂性、耐候性、硬度高、耐热性和很强的紫外线屏蔽作用等优点

使用有机*对纳米SiO2进行表面改性，然后加入到丙烯酸酯类单体中并高速剪切分散，在引发剂作用下利用原位聚合法和共混法合成了纳米SiO2/水性丙烯酸树脂复合材料，纳米材料的加入，使聚丙烯酸酯分子链之间增加了交联，内部形成的网状结构使其力学性能有所提高，其耐热性与防水性得到提高;此外，随着纳米SiO2含量的增加，由于Si－O－Si结构的生成，使其内部形成的自由体积增加，密度下降，硬度、拉伸强度都随之提高，而吸水率、断裂伸长率随之减少，但当纳米SiO2用量高于3%时，拉伸强度与吸水率开始下降。

使用溶胶一凝胶法制备纳米SiO2粒子，并用纳米SiO2粒子与丙烯酸树脂进行复合，制备出的纳米SiO2改性丙烯酸树脂涂饰剂，其SiO2粒子的分散性较好，成膜具有增强、增韧效果;涂饰后的革样在不影响其它性能的前提下，透气性和透水汽性得到了较大的提高。

利用有机氟单体、有机硅单体对传统的丙烯酸树脂进行改性、合成了氟硅改性丙烯酸树脂，使其具有低表面能性能，以此为成膜物质，通过添加各种微米级颜填料、纳米SiO2以及各种助剂，制备出了具有微米—纳米表面结构的无毒疏水海洋防污涂料。纳米SiO2的加入可以在表面形成微纳米结构从而降低涂料表面能，增强防污涂料的防污性能。顾敏豪等

通过有机*处理纳米二氧化硅表面，减少了改性纳米二氧化硅的团聚，提高其在涂料中的分散性。将所得改性纳米二氧化硅和丙烯酸树脂混合制备不锈钢保护用涂料，获得了具有高硬度、高耐污性能、耐酸耐碱性能和耐盐雾性能优异的纳米复合涂料，提高了不锈钢的使用寿命和使用范围，具有很好的经济效益和社会效应。

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采用原位聚合法成功制备了聚丙烯酸酯/纳米SiO2有机－无机复合压敏胶乳液，纳米SiO2的引入同时提高了聚丙烯酸酯乳液的内聚力和剥离强度，可制得初粘力大于20#球，原粘力大于100h，180°剥离强度达到11N/25mm以上的高性能乳液型压敏胶。

上海依肯的研磨分散机特别适合于需要研磨分散均质一步到位的物料。研磨分散机为立式分体结构，精密的零部件配合运转平稳，运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封，并通冷媒对密封部分进行冷却，把泄露概率降到低，保证机器连续24小时不停机运行。简单的说就是将IKN/依肯胶体磨进行进一步的改良，将单一的胶体磨磨头模块，改良成两级模块，加入了一级分散盘。可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择） IKN研磨分散机可以高速研磨，分散，乳化，均质等功能，设备转速可达14000rpm，是目前普通设备转速的4-5倍。

CMD2000研磨分散机有一定输送能力，对高固含量有一定粘稠度物料，CM2000设计了符合浆液流体特性的特殊转子，进行物料的推动输送；所有与物料接触部位均为316L不锈钢，机座采用304不锈钢；特殊要求如：硬度较大物料，对铁杂质要求严苛的物料，管道有一定压力并且需不间断运转的工况，可选磨头喷涂碳化物或陶瓷；CMD2000改良型胶体磨腔体外有夹套设计，可通冷却或者升温介质。

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研磨分散机的特点：

1、 线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨

 

2、 定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

3、 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

4、 在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

5、 高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

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