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亲水性塑料研磨分散机

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  • 公司名称上海依肯机械设备有限公司
  • 品       牌
  • 型       号CMD2000
  • 所  在  地上海市
  • 厂商性质代理商
  • 更新时间2022/6/10 11:11:02
  • 访问次数958
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  上海依肯机械设备有限公司是一家中德合作经营企业,依肯通过引进德国IKN技术和科学管理模式,形成了完整的研发、制造及营销体系。她保持与的混合乳化技术同步,同时拥有XX的技术研究人才和生产能力,为中国及提供多元化的产品及技术服务。她已经发展成为中国流体高剪切混合设备行业
  
  公司主要研发,生产制造,销售流体领域的几大系列:一乳化机,二均质机,三分散机,四胶体磨,五乳化泵,六成套设备等系列。为混合、分散、均质、悬浮、乳化、湿磨、粉液混合等领域提供高品质的解决方案,设备加工材料细度可达微纳米级别。依肯公司作为国内的供应商,凭借着对广大客户要求的深入了解,为客户解决流程工艺中的难题,混合技术,乳化均质,粉液混合技术和合理的配置方案,确保设备运行稳定的可靠性。她已广泛应用于石油、石化、化工、食品、生物制药、核工业、精细化工等领域,并成功为国家重点工程配套,部分产品返销国外,取得了显著的经济效益和社会效益。
  
  “追求高品质”是依肯公司是的宗旨。“成功源自创新”亦是公司全体员工一直努力追随的目标。上海依肯机械设备有限公司将以求实、创新的企业精神走向市场。在您在关注和支持下、她将以不断发展壮大,在混合乳化设备制造的广阔天地中散发出*的魅力。


高剪切乳化机,均质机,胶体磨,分散机,剪切机,乳化泵,均质泵,剪切泵,搅拌机,混合机,粉液混合机,不锈钢反应釜,实验室乳化机,实验室均质机,实验室胶体磨,超细匀浆机,成套乳化设备等
亲水性塑料研磨分散机,纳米级二氧化矽研磨分散机采用整体式机械密封,*上解决了高速运转下的物料泄漏以及冷却介质污染等问题,安装与更换方便快捷.采用国x先x的受控切割技术,将纤维类物料粉碎细度控制在设定范围之内,满足生产中的粗、细及超细湿法粉碎的要求
亲水性塑料研磨分散机 产品信息

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纳米级二氧化矽(Silica fiber)是由硅酸钠,也称水玻璃构成。纯硅酸钠是一种白色粉末,经过熔融和加工后,制成很细的弦丝或纤维。纳米级二氧化矽矽有下列几种主要应用;1.用作保温材料;2.远距离通信的光纤;3.磨擦衬材料;4.制作湿网和加强材料。

纳米级二氧化矽有下列几个方面的主要应用:

1.由于它高温时和大多矿物及有机酸没有反应和具有高热阻,故常用作航天,汽车等方面的保温材料。它能在1000度C长时保温而不发生变化。

2.用来制造光通信的纤维,它的传输率高,输送得远。常用在远距离通信上。在光学方面的其它应用还包括,手术和传感器成像。如内窥镜就是使用二氧化硅纤维把手术时体内的情况传送出来的。

3.用旋转方法生产二氧化硅酸纤维,它可用作摩擦衬材料。

4.用来制造湿网,过滤衬布和加强材料。

 

上海依肯研发的研磨分散机特别适合于需要研磨分散均质一步到位的物料。是将IKN/依肯胶体磨进行进一步的改良,在原来CM2000系列研磨分散机为立式分体结构,精密的零部件配合运转平稳,运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封,并通冷媒对密封部分进行冷却,把泄露概率降到低,保证机器连续24小时不停机运行。在胶体磨的基础上,将单一的胶体磨磨头模块,改良成两级模块,加入了一级分散盘。

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CMD2000研磨分散机为立式分体结构,精密的零部件配合运转平稳,运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封,并通冷媒对密封部分进行冷却,把泄露概率降到低,保证机器连续24小时不停机运行。

CMD2000研磨分散机有一定输送能力,对高固含量有一定粘稠度物料,CM2000设计了符合浆液流体特性的特殊转子,进行物料的推动输送;所有与物料接触部位均为316L不锈钢,机座采用304不锈钢;特殊要求如:硬度较大物料,对铁杂质要求严苛的物料,管道有一定压力并且需不间断运转的工况,可选磨头喷涂碳化物或陶瓷;CMD2000改良型胶体磨腔体外有夹套设计,可通冷却或者升温介质。

 

研磨分散机的特点:

更稳定 采用优化设计理念,将先x的技术与创x的思维有效融合,并体现在具体的设备结构设计中,为设备稳定运行提供了保证.

新结构 通过梳齿状定子切割破碎,缝隙疏密决定细度大小,超高线速度的吸料式叶轮提供*切割力,纤维湿法研磨破碎可达400目.

更可靠 采用整体式机械密封,zui大程度上解决了高速运转下的物料泄漏以及冷却介质污染等问题,安装与更换方便快捷.

新技术 采用先x的受控切割技术,将纤维类物料粉碎细度控制在设定范围之内,满足生产中的粗、细及超细湿法粉碎的要求.

 

CMD2000系列研磨分散机的结构:研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。

*级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列,还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用相匹配的,因而它对制造出zui终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

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研磨分散机的特点:

1、 线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨

 

2、 定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

3、 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

4、 在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

5、 高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

设备核心参数:

设备等级:化工级、卫生I级、卫生II级、无菌级
电机形式:普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、
电源选择: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
电机选配件: PTC 热保护、降噪型
研磨分散机材质:SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化锆陶瓷
研磨分散机选配:储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车
研磨分散机表面处理:抛光、耐磨处理
进出口联结形式:法兰、螺口、夹箍
研磨分散机选配容器:本设备适合于各种不同大小的容器

 

CMD2000系列研磨分散机设备选型表
 

型号

流量

L/H

转速

rpm

线速度

m/s

功率

kw

入/出口连接

DN

CMD2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

CMD2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

CMD2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65

CMD2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65

CMD2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125

CMD2000/50

15000

1100

23

110

DN200/DN150

 

流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到zui大允许量的10%

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