O. l-0.2 μm
捕集效率99.9995%以上
>特点
低压损 高效率
重量轻 厚度薄
运行成本低
>用途
超LSI制造工场、半导体制造工场、原子力研究中心、无尘室、层流设备、工作台等其它要求超高洁净度的场合。
>型号尺寸及其他参数
参考价 | 面议 |
O. l-0.2 μm
捕集效率99.9995%以上
>特点
低压损 高效率
重量轻 厚度薄
运行成本低
>用途
超LSI制造工场、半导体制造工场、原子力研究中心、无尘室、层流设备、工作台等其它要求超高洁净度的场合。
>型号尺寸及其他参数
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