详细摘要： 易受热损伤的样品，也能方便地制作出薄膜样品和截面样品。冷却保持时间长，有效地抑制了热损伤。
产品型号：所在地：广州市更新时间：2024-12-16 在线留言注塑机 挤出机 造粒机 吹膜机 吹塑机 吹瓶机 成型机 吸塑机 滚塑机 管材生产线 板材生产线 型材生产线 片材生产线 发泡设备 塑料压延机
广州文明机电有限公司
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详细摘要： JMS-S3000采用日本电子独自研发的SpiralTOF模式离子光学系统，它创新的技术在学术界已广为人知，其超高的质量分辨率和质量准确度，于传统的装置。
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详细摘要： JMS-MT3010HRGA采用的Multi-Turn技术，在只有20cm见方的质量分析器内，离子的最长飞行距离高达200ｍ。
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详细摘要： MS-800D UltraFOCUS™ 是进行超低浓度分析的，采用高分辨选择离子监测模式（HRSIM）适合二恶英及相关化合物如:二恶英、多氯联苯(P...
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详细摘要： JMS-700高分辨质谱仪全部采用电脑控制，离子源和各种参数具有自动调谐功能，不仅是常规测试，利用高分辨测试等所有模式都能容易地获得高质量的分析结果。
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详细摘要： 软X射线分析谱仪(SXES :Soft X-Ray Emission Spectrometer)通过组合新开发的衍射光栅和高灵敏度Ｘ射线CCD相机，实现了的能量...
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详细摘要： JSX-1000S型X射线荧光光谱仪采用触控屏操作、提供更加简便迅速的元素分析。具备常规定性、定量分析（FP法・检量线法）、RoHS元素筛选功能等。 利用丰富...
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详细摘要： IB-19520CCP在加工过程中利用液氮冷却，能减轻离子束对样品造成的热损伤。冷却持续时间长、液氮消耗少的构造设计。在装有液氮的情况下，也能将样品快速冷却、恢...
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详细摘要： 为了满足市场多样化的需求，IB-19530CP截面抛光仪采用多用途样品台，通过交换各种功能性样品座实现了功能的多样化。
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详细摘要： 通过高频感应加热产生大约1万度的热等离子体，经过物理/化学反应过程，能合成纳米颗粒及厚膜(镀膜)
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详细摘要： JEBG系列大功率电子枪是用来在真空中蒸发或熔解金属及氧化物的大功率电子束发生源，能在宽幅塑料及大面积玻璃基板上持续、高速率地镀膜，还可应用于电子束熔炼，用于高...
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详细摘要： 以电子束为热源使用各种熔解用坩埚，对高融点活性金属进行熔解/精炼、制备铸锭的电子束熔炼炉。 适合研究开发及少量生产、省空间设计的小型熔炼炉。 可按照用途选择坩埚...
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详细摘要： TEM断层扫描系统采用算法的软件，实现了从获取连续倾斜图像到三维重构整个过程的自动化。
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详细摘要： JED-2300T AnalysisStation是以“图像观察和分析"为基本理念的TEM/EDS集成系统。在分析数据过程中，自动采集电镜主机的倍率、加速电压等...
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详细摘要： JBX-9500FS是一款100kV圆形束电子束光刻系统，兼具高水平的产出量和定位精度，能容纳300mmφ的晶圆片和6英寸的掩模版，适合纳米压印、光子器件、通信...
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详细摘要： 高精密JBX-8100FS圆形电子束光刻系统，通过的设计优化，实现更简便的操作，更快的刻写速度，更小的占地面积和安装空间，并且更加绿色节能。
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详细摘要： JBX-6300FS的电子光学系统在100kV的加速电压下能自动调整直径为（计算值）2.1nm的电子束，简便地描画出线宽在8nm以下（实际可达5nm）的图形。 ...
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详细摘要： JBX-3200MV是用于制作28nm～22/20nm节点的掩模版/中间掩模版（mask/reticle）的可变矩形电子束光刻系统。 的技术实现了高速、高精度和...
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详细摘要： JBX-3050MV 是用于制作45nm～32nm 节点的掩模版/中间掩模版（mask/reticle）的可变矩形电子束光刻系统。 zei的技术实现了高速、高精...
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