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地点： 广州市 开展时间： 2026-11-18 举办单位： 香港粤展集团((YUEZHAN)、广州市特印展览服务有限公司(TEYIN)、北京未来包装技术研究院(Future Package)
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最新九项BOPP薄膜相关专利发布
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01
一种低析出离型BOPP薄膜及其制备方法和应用
申请公布号：CN123062834A
申请公布日：2026.11.10
申请号：2026113055306
申请日：2026.08.26
申请人：福融新材料研发(福建)有限公司
发明人：黄晋朗;陈海山;马骏;张顺淇
地址：350300福建省福州市福清市音西街道福融新材料股份有限公司研发办公楼一层
分类号：C08L23/12(2006.01)I; 全部
摘要：
本发明涉及双向拉伸薄膜材料技术领域，具体涉及一种低析出离型BOPP薄膜及其制备方法和应用。在本发明中，低析出离型BOPP薄膜的原料包含有机硅类离型剂，或者进一步包括PP接枝马来酸酐，通过设计各原料的用量比例，实现了低析出离型BOPP薄膜力学性能与离型剂析出时间的有效平衡。
02
一种自愈BOPP电容膜及其制备方法和应用
申请公布号：CN123062836A
申请公布日：2026.11.10
申请号：202611382526X
申请日：2026.09.08
申请人：链行走新材料科技(广州)有限公司
发明人：请求不公布姓名; 全部
地址：510000广东省广州市南沙区大岗镇智新一路8号联东U谷广州南沙国际企业港11栋601房
分类号：C08L23/12(2006.01)I; 全部
摘要：
本发明公开一种自愈BOPP电容膜及其制备方法和应用，该自愈BOPP电容膜由复合材料制成，且所述复合材料的制备原料包括(a)聚丙烯，(b)具有酰肼结构的聚合物。在本发明中，具有酰肼结构的聚合物可有效“锁住”聚丙烯材料中的金属杂质残留等，降低这些组分对BOPP电容膜性能的不利影响，从而提高BOPP电容膜的自愈合能力，使得BOPP电容膜获得改善的耐温性和电容量保持率。
03
BOPP薄膜厚度协同控制方法及系统
申请公布号：CN123047379A
申请公布日：2026.11.06
申请号：2026112020812
申请日：2026.08.10
申请人：苏州昆岭薄膜工业有限公司
发明人：刘德怀; 全部
地址：215126江苏省苏州市工业园区星龙街368号
分类号：G05B19/042(2006.01)I 全部
摘要：
本发明属于BOPP薄膜生产控制技术领域，涉及一种BOPP薄膜厚度协同控制方法及系统，包括采集薄膜宽度方向多个测点的厚度并计算偏差，分析各测点偏差识别厚度异常区域，建立模头螺栓调节量与测点厚度变化量之间的耦合响应矩阵K，将异常区域内全部测点偏差和耦合响应矩阵K输入优化求解器，以区域偏差校正效果最优为目标函数求解候选螺栓集合中各螺栓的协同旋转角度，并驱动各螺栓同步旋转调节模唇开度。本发明以连续超差测点构成的异常区域为控制单元，通过耦合响应矩阵量化螺栓间的耦合效应并在同一目标函数下协同求解各螺栓旋转角度，消除逐点独立调节时因耦合干扰导致的反复迭代与调节振荡。
04
一种BOPP收缩膜用增刚母料及其加工工艺
申请公布号：CN123042415A
申请公布日：2026.11.06
申请号：2026112929153
申请日：2026.08.25
申请人：湖北富思特材料科技集团有限公司
发明人：江四华;章栋;彭宜海
地址：432500湖北省孝感市云梦县城关镇南环路1号
分类号：C08L23/12(2006.01)I; 全部
摘要：
本发明涉及一种BOPP收缩膜用增刚母料及其加工工艺，所述增刚母料以质量份计包括，50‑75份载体树脂、20‑40份氢化石油树脂、0.3‑2份纳米刚性填料、0.5‑1.0份成核剂、2.0‑4.0份界面相容剂、0.3‑2.0份加工助剂、0.2‑1.0份抗氧剂和0.1‑0.5份光稳定剂。本发明的增刚母料的增刚性能高效，仅按照5%‑15%的占比添加就能够显著提高聚丙烯材料的刚性和强度。此外，通过调整组分含量，能够得到适配不同使用场景的增刚母料。
05
一种BOPP无胶覆合膜及其制备方法
申请公布号：CN123040450A
申请公布日：2026.11.06
申请号：2026115606178
申请日：2026.10.10
申请人：广东德冠包装材料有限公司
发明人：雷炳荣;梁啟骞;赖仲平;崔晓花
地址：528325广东省佛山市顺德区杏坛镇齐新路新涌工业区
分类号：B32B27/32(2006.01)I; 全部
摘要：
本发明涉及薄膜领域，特别是涉及一种BOPP无胶覆合膜及其制备方法，覆合膜包括依次设置的消光层、芯层、阻隔层和热覆合层，消光层包括无规共聚PP和45~52wt%HDPE，芯层包括均聚PP和0.5~1wt%抗静电母料，阻隔层包括EVOH和5~10wt%MAH‑g‑EVA，阻隔层厚度为1.5~2.3μm，热覆合层包括EVA和5~8wt%熔融指数为2.5~4g/10min(190℃，2.16kg)的PB‑1。本发明的无胶覆合膜，既能阻碍抗静电剂迁移，又能在实现常温下自身抗粘连的同时使EVA在热覆合时充分浸润目标覆合表面，改善了传统覆合膜因抗静电剂迁移、抗粘连剂凸起导致的覆合强度弱以及出现白点的问题。
06
一种BOPP易揭防雾盖膜、其制备方法及其应用
申请公布号：CN123001362A
申请公布日：2026.10.30
申请号：2026112681143
申请日：2026.08.20
申请人：福融新材料研发(福建)有限公司
发明人：龚灵欣;马骏;赖铭铭;张顺淇
地址：350300福建省福州市福清市音西街道福融新材料股份有限公司研发办公楼一层
分类号：B32B27/32(2006.01)I; 全部
摘要：
本发明公开了一种BOPP易揭防雾盖膜、其制备方法及其应用，该防雾盖膜包括共挤膜体，共挤膜体包括外抗粘PP层、抗静电PP芯层、次内易揭热封层及内易揭热封层；次内易揭热封层和内易揭热封层均由30‑60%极性共聚物、40‑70%相形态调控剂、2‑4%防雾剂及0‑3%添加剂组成；相形态调控剂与极性共聚物共同形成的微观相分离结构为防雾剂的迁移通道；防雾剂内含有与极性共聚物具有分子作用力的极性基团，该分子作用力能减缓防雾剂的迁移速率。本发明的核心技术贡献在于通过相分离结构调控、片层物理屏障、分子间作用力锚定、双热封层储库、浓度梯度驱动、芯层反向阻滞六重协同机制，由此实现防雾性能的长效持久，并同时兼顾优异的热封强度与易揭开启性能。
07
一种免底涂型PVDC涂布用BOPP基膜及其制备方法
申请公布号：CN123001364A
申请公布日：2026.10.30
申请号：2026113776761
申请日：2026.09.07
申请人：福融新材料研发(福建)有限公司
发明人：赖铭铭;马骏;龚灵欣;张顺淇
地址：350300福建省福州市福清市音西街道福融新材料股份有限公司研发办公楼一层
分类号：B32B27/32(2006.01)I; 全部
摘要：
本发明公开了一种免底涂型PVDC涂布用BOPP基膜及其制备方法，该BOPP基膜包括共挤膜体，共挤膜体包括由上至下依次设置的上表层、次上表层、芯层及下表层；上表层，按重量百分比计，包含以下组分：50%‑80%非极性基体树脂、20%‑40%极性改性材料、5%‑20%弹性体材料及 0.1%‑3%抗粘剂，其中，极性改性材料能为非极性基体树脂提供极性过渡层并能提供涂布锚定点，弹性体材料分散在非极性基体树脂中形成弹性微相以吸收涂布收缩应力。本发明通过上表层的化学锚定和物理缓冲双功能协同设计、次上表层的梯度应力缓冲结构设计以及科学匹配的制备方法，实现了无需底涂剂即可使PVDC涂层牢固附着于BOPP基膜的技术目标。
08
一种纳米粒子掺杂复合高阻隔耐候BOPP膜及其制备方法
申请公布号：CN123001368A
申请公布日：2026.10.30
申请号：2026114958428
申请日：2026.09.24
申请人：浙江凯利新材料股份有限公司;
全部发明人：王静; 陈利红;任炜钊;王利宇;袁韬;胡启诚
地址：312000浙江省绍兴市柯桥区柯桥街道柯东高新技术园区镜水路889号
分类号：B32B27/32(2006.01)I; 全部
摘要：
本申请属于BOPP膜技术领域，具体提供一种纳米粒子掺杂复合高阻隔耐候BOPP膜及其制备方法。该BOPP膜包括芯层和共挤贴合设置在芯层两侧的两个表层，至少一个表层经电晕处理；芯层原料包括均聚聚丙烯、再生聚丙烯和抗静电母料；表层原料包括均聚聚丙烯和防粘母料；防粘母料包含均聚聚丙烯和改性纳米氧化铝；改性纳米氧化铝包括纳米氧化铝及包覆于其表面的交联包覆层，交联包覆层由葡聚糖‑g‑聚己内酯与聚L‑赖氨酸经戊二醛交联形成。本申请通过改性纳米氧化铝在表层形成均匀微凸起，降低粘连力；有机交联包覆层改善分散性并调控芥酸酰胺迁移，使薄膜兼具高阻隔、耐候、低粘连、稳定爽滑性。
09
一种耐电解液终止胶带用BOPP基膜及其制备方法和应用
申请公布号：CN122978857A
申请公布日：2026.10.27
申请号：2026114415493
申请日：2026.09.17
申请人：广东德冠包装材料有限公司
发明人：李宏杰;梁杰兴;李明轩;成晓哲;徐振文
地址：528325广东省佛山市顺德区杏坛镇齐新路新涌工业区
分类号：C09J7/29(2018.01)I; 全部
摘要：
本发明属于薄膜领域，涉及一种耐电解液终止胶带用BOPP基膜及其制备方法和应用。BOPP基膜包括依次设置的上表层、芯层和下表层；其中，上表层包括均聚聚丙烯和抗粘连母料；芯层包括均聚聚丙烯、高密度聚乙烯和α晶成核剂；下表层包括均聚聚丙烯和反应性接枝共聚物。通过多层结构设计与反应性接枝共聚物的引入，使BOPP基膜具有与底涂层形成共价键合的内在反应性表面，无需二次电晕处理，从而改善基膜在生产过程的电晕处理后因下表层表面张力衰减无法直接涂布底涂层的问题，以及电解液浸泡而导致的界面脱粘问题。
(来源：国家知识产权局、专委会整理)
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